El Chuck electrostático ESC es un dispositivo de sujeción de obleas de núcleo en el campo de la fabricación de semiconductores, con adsorción electrostática como su principio fundamental. Forma un campo electrostático aplicando una alta tensión y logra la fijación sin contacto de las obleas a través de la fuerza de Coulomb o la fuerza de Johnson-Rahbek, sirviendo como un componente clave indispensable en procesos de vacío tales como grabado de plasma, implantación iónica y deposición de película delgada.
Este producto está adaptado a entornos de proceso duros, incluyendo condiciones no magnéticas y vacío ultra alto de 10 ⁻⁵ Pa y por debajo, y puede adsorber establemente varios materiales dieléctricos tales como obleas, zafiro y vidrio. Soporta diseños personalizados de electrodos bipolares, multipolares e interdigitados, con la precisión de planicidad global de la superficie de adsorción que alcanza dentro de 1 μm y el paralelismo mejor que 5 μm. La fuerza de adsorción es ≥10N bajo la tensión de adsorción estándar, y la fuerza de adsorción residual permanece por encima del 60% durante 24 horas, lo que permite el mantenimiento de un efecto de sujeción estable durante un período prolongado.
En términos de estructura y rendimiento, el mandril electrostático ESC está recubierto con películas cerámicas de alta conductividad térmica como nitruro de aluminio y nitruro de silicio, que combinan una excelente resistencia a la corrosión de plasma y resistencia mecánica. Algunos productos de gama alta integran electrodos de control de temperatura de múltiples zonas y un sistema de enfriamiento de helio posterior para lograr una regulación precisa y uniforme de la temperatura de la oblea, evitando la deformación de la oblea o la deposición desigual de película delgada causada por el estrés térmico. Mientras tanto, su fuerza de adsorción se distribuye uniformemente sin puntos de tensión locales, lo que puede proteger eficazmente la integridad de la superficie de materiales frágiles como obleas ultradelgadas y componentes ópticos de precisión, y eliminar arañazos y problemas de deformación causados por la sujeción mecánica.
En la actualidad, el mandril electrostático ESC se ha convertido en un componente central de equipos de fabricación de circuitos integrados a gran escala, y se aplica ampliamente en procesos como la metrología de obleas, la litografía de haz de electrones y el envasado de chips de semiconductores. Además, los parámetros que incluyen el número de electrodos, las especificaciones de planura y las dimensiones globales pueden diseñarse a medida de acuerdo con los requisitos del proceso, adaptándose a escenarios de procesamiento de obleas con diferentes especificaciones tales como 8 pulgadas y 12 pulgadas.